| 序号 | HS编码 | 商品名称 | 英文名称 | 商品描述 | 退税率 | 计量单位 | 海关监管 | 状态 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 84862010.00 | 氧化、扩散、退火及其他热处理设备 | [Oxidation, diffusion, annealing and other heat treatment equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis] | 氧化、扩散、退火及其他热处理设备 | 13.00 % | 台/千克 |
正常
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| 2 | 84862031.10 | 制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（后道用） | 制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（后道用） | 13.00 % | 台/千克 |
正常
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| 3 | 84862031.20 | 制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（前道用 I 线光刻机） | 制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（前道用 I 线光刻机） | 13.00 % | 台/千克 |
正常
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| 4 | 84862031.30 | 制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（前道用氟化氪（ KrF ）光刻机） | 制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（前道用氟化氪（ KrF ）光刻机） | 13.00 % | 台/千克 |
正常
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| 5 | 84862031.90 | 其他制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机 | 其他制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机 | 13.00 % | 台/千克 |
正常
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| 6 | 84862031.00 | 制造半导体器件或集成电路用分步重复光刻机 | [Step and repeat aligners for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis] | 制造半导体器件或集成电路用分步重复光刻机 | 13.00 % | 台/千克 | 无 |
正常
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| 7 | 84862041.00 | 制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 | [Dry plasma etching for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis] | 制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 | 13.00 % | 台/千克 |
正常
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| 8 | 84862050.00 | 制造半导体器件或集成电路用离子注入机 | [Ion implanters for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis] | 制造半导体器件或集成电路用离子注入机 | 13.00 % | 台/千克 |
正常
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| 9 | 84863031.00 | 制造平板显示器用分步重复光刻机 | [Step and repeat aligners for the manufacture of flat panel displays] | 制造平板显示器用分步重复光刻机 | 13.00 % | 台/千克 |
正常
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