| 序号 | HS编码 | 商品名称 | 英文名称 | 商品描述 | 退税率 | 计量单位 | 海关监管 | 状态 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 84439111.10 | 卷筒料自动给料机，给料线速度≥12m/s | [Roll material automatic feeder, feed line speed ≥ 12m / s] | 卷筒料自动给料机，给料线速度≥12m/s | 13.00 % | 千克/台 | O |
正常
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| 2 | 84439111.90 | 其他卷筒料给料机 | [Other rolling materials feeder] | 其他卷筒料给料机 | 13.00 % | 千克/台 | O |
正常
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| 3 | 84861010.00 | 利用温度变化处理单晶硅的机器及装置 | [Machines and apparatus for the treatment of monocrystalline sillicon by a process involving a change of temperature (used for the manufacture of boules or wafers)] | 利用温度变化处理单晶硅的机器及装置 | 13.00 % | 台/千克 |
正常
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| 4 | 84861020.00 | 制造单晶柱或晶圆用的研磨设备 | [Grinding machines for the manufacture of boules or wafers] | 制造单晶柱或晶圆用的研磨设备 | 13.00 % | 台/千克 |
正常
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| 5 | 84861030.00 | 制造单晶柱或晶圆用的切割设备 | [Sawing machines for the manufacture of boules or wafers] | 制造单晶柱或晶圆用的切割设备 | 13.00 % | 台/千克 |
正常
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| 6 | 84861040.00 | 制造单晶柱或晶圆用的化学机械抛光设备(CMP) | [Chemical mechanical polishers(CMP) for the manufacture of boules or wafers] | 制造单晶柱或晶圆用的化学机械抛光设备(CMP) | 13.00 % | 台/千克 |
正常
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| 7 | 84862010.00 | 氧化、扩散、退火及其他热处理设备 | [Oxidation, diffusion, annealing and other heat treatment equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis] | 氧化、扩散、退火及其他热处理设备 | 13.00 % | 台/千克 |
正常
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| 8 | 84862021.00 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 | [Chemical Vapour Deposition(CVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis] | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 | 13.00 % | 台/千克 |
正常
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| 9 | 84862022.00 | 制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 | [Physical Vapour Deposition(PVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis] | 制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 | 13.00 % | 台/千克 |
正常
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| 10 | 84862031.10 | 制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（后道用） | 制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（后道用） | 13.00 % | 台/千克 |
正常
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| 11 | 84862031.20 | 制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（前道用 I 线光刻机） | 制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（前道用 I 线光刻机） | 13.00 % | 台/千克 |
正常
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| 12 | 84862031.30 | 制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（前道用氟化氪（ KrF ）光刻机） | 制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机（前道用氟化氪（ KrF ）光刻机） | 13.00 % | 台/千克 |
正常
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| 13 | 84862031.90 | 其他制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机 | 其他制造半导体器件或集成电路用分布重复光刻机 | 13.00 % | 台/千克 |
正常
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| 14 | 84862031.00 | 制造半导体器件或集成电路用分步重复光刻机 | [Step and repeat aligners for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis] | 制造半导体器件或集成电路用分步重复光刻机 | 13.00 % | 台/千克 | 无 |
正常
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| 15 | 84862041.00 | 制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 | [Dry plasma etching for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis] | 制造半导体器件或集成电路用等离子体干法刻蚀机 | 13.00 % | 台/千克 |
正常
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