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制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
全文有效
来源：海关编码查询
发布时间：2024-09-23
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摘要：[Chemical Vapour Deposition(CVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis]
标签：
增值税
消费税
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您查询的海关编码(HSCODE)[8486202100] 申报要素及申报实例(↓条)等详细信息
8486202100 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置
| 商品编码 | 84862021.00 | ||||
| 商品名称 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 | ||||
| 申报要素 | 1:品名;2:品牌类型;3:出口享惠情况;4:用途;5:功能;6:品牌（中文或外文名称）;7:型号;8:GTIN;9:CAS;10:其他; | ||||
| 法定第一单位 | 台 | 法定第二单位 | 千克 | ||
| 最惠国进口税率 | 0 | 普通进口税率 | 30% | 暂定进口税率 | - |
| 消费税率 | 0% | 增值税率 | 13% | ||
| 出口关税率 | 0% | 出口退税率 | 13% | ||
| 海关监管条件 | 无 | 检验检疫类别 | 无 | ||
| 商品描述 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置化学气相沉积装置(CVD) | ||||
| 英文名称 | Chemical Vapour Deposition(CVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis | ||||
个人行邮税号 无
海关监管条件 (无)HS法定检验检疫 (无)
| 许可证或批文代码 | 许可证或批文名称 |
| 检验检疫代码 | 名称 |
10位HS编码+3位CIQ代码(中国海关申报13位海关编码)
| 10位HS编码+3位CIQ代码 | 商品信息 |
| 8486202100.999 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置(化学气相沉积装置(CVD)) |
所属分类及章节、品目
申报实例汇总
| HS编码 | 商品名称 | 商品规格 |
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| 84862021.00 | 化学气相沉积设备 | (旧)(制作半导体专用) |
| 84862021.00 | 金属有机物化学气相沉淀炉 | (ICCCS19X2/生产半导体晶片用) |
| 84862021.00 | 化学气相沉积设备/NOVELLUS/在 | (D15498A) |
| 84862021.00 | 金属有机物化学气相沉积设备 | D-180 |
| 84862021.00 | 金属有机源气相沉积设备 | D300 |
| 84862021.00 | 镀膜机 | COATING MACHINE |
| 84862021.00 | 化学气相沉积设备/WJ牌 | WJ999 |
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| 84862021.00 | 金属有机物化学气相沉积系统 | CCS 19X2 Flip Top |
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| 84862021.00 | 气体混合柜成套散件/RESI | 化学气相沉积设备，将沉积薄膜的气体按照要求混合 |
| 84862021.00 | 化学气相沉积设备 | CONCEPT ONE |
| 84862021.00 | C-1淀积炉 | 型号C1 |
| 84862021.00 | IC淀积炉 | 型号7000VTR,旧设备 |
| 84862021.00 | 钨膜化学气相沉积设备 | C3 Altus NOVELLUS牌 |
| 84862021.00 | 太阳能减反射膜制造设备 | Centrotherm牌,E2000 HT 410-4(4) |
| 84862021.00 | (旧)常压化学气相沉积设备 | 在硅片表面上沉积一层二氧化硅薄膜;;Watkins-Johnson |
| 84862021.00 | 外延炉 | 用于半导体生产;使硅片上产生薄膜;LPE;PE2061S |
| 84862021.00 | 等离子增强化学气相沉积硅镀膜系统主机 | 镀非晶和微晶膜,品牌:OERLIKON,型号:KAI MT |
