| 序号 | HS编码 | 商品名称 | 英文名称 | 商品描述 | 退税率 | 计量单位 | 海关监管 | 状态 |
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 1 | 84862021.00 | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 | [Chemical Vapour Deposition(CVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis] | 制造半导体器件或集成电路用化学气相沉积装置 | 13.00 % | 台/千克 |
正常
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| 2 | 84862022.00 | 制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 | [Physical Vapour Deposition(PVD)equipment for the manufacture of semiconductor devices or of electronic integrated circuis] | 制造半导体器件或集成电路用物理气相沉积装置 | 13.00 % | 台/千克 |
正常
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| 3 | 84863021.00 | 制造平板显示器用化学气相沉积装置(CVD) | [Chemical Vapour Deposition(CVD)equipment for the manufacture of flat panel displays] | 制造平板显示器用化学气相沉积装置(CVD) | 13.00 % | 台/千克 |
正常
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| 4 | 84863022.00 | 制造平板显示器用物理气相沉积装置(PVD) | [Physical Vapour Deposition (PVD)equipment for the manufacture of flat panel displays] | 制造平板显示器用物理气相沉积装置(PVD) | 13.00 % | 台/千克 |
正常
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